من وجهة نظر احترافية، فإن عملية إنتاج الشريحة معقدة للغاية ومملة.ومع ذلك، من السلسلة الصناعية الكاملة لـ IC، فهي مقسمة بشكل أساسي إلى أربعة أجزاء: تصميم IC ← تصنيع IC ← التعبئة والتغليف ← الاختبار.
عملية إنتاج الرقائق:
1. تصميم الرقاقة
الرقاقة هي منتج ذو حجم صغير ولكن بدقة عالية للغاية.لصنع شريحة، التصميم هو الجزء الأول.يتطلب التصميم مساعدة تصميم الشريحة من تصميم الشريحة المطلوبة للمعالجة بمساعدة أداة EDA وبعض نوى IP.
عملية إنتاج الرقائق:
1. تصميم الرقاقة
الرقاقة هي منتج ذو حجم صغير ولكن بدقة عالية للغاية.لصنع شريحة، التصميم هو الجزء الأول.يتطلب التصميم مساعدة تصميم الشريحة من تصميم الشريحة المطلوبة للمعالجة بمساعدة أداة EDA وبعض نوى IP.
3. رفع السيليكون
وبعد فصل السيليكون، يتم التخلي عن المواد المتبقية.وصل السيليكون النقي بعد خطوات متعددة إلى جودة تصنيع أشباه الموصلات.هذا هو ما يسمى بالسيليكون الإلكتروني.
4. سبائك صب السيليكون
بعد التنقية، يجب صب السيليكون في سبائك السيليكون.تزن البلورة الواحدة من السيليكون من الدرجة الإلكترونية بعد صبها في سبيكة حوالي 100 كجم، ويصل نقاء السيليكون إلى 99.9999%.
5. معالجة الملفات
بعد صب سبيكة السيليكون، يجب تقطيع سبيكة السيليكون بأكملها إلى قطع، وهي الرقاقة التي نطلق عليها عادةً الرقاقة، وهي رقيقة جدًا.وبعد ذلك، يتم صقل الرقاقة حتى تصبح مثالية، ويصبح السطح أملسًا مثل المرآة.
يبلغ قطر رقائق السيليكون 8 بوصة (200 ملم) و12 بوصة (300 ملم).كلما زاد القطر، انخفضت تكلفة الشريحة الواحدة، ولكن زادت صعوبة المعالجة.
5. معالجة الملفات
بعد صب سبيكة السيليكون، يجب تقطيع سبيكة السيليكون بأكملها إلى قطع، وهي الرقاقة التي نطلق عليها عادةً الرقاقة، وهي رقيقة جدًا.وبعد ذلك، يتم صقل الرقاقة حتى تصبح مثالية، ويصبح السطح أملسًا مثل المرآة.
يبلغ قطر رقائق السيليكون 8 بوصة (200 ملم) و12 بوصة (300 ملم).كلما زاد القطر، انخفضت تكلفة الشريحة الواحدة، ولكن زادت صعوبة المعالجة.
7. الكسوف وحقن الأيونات
أولاً، من الضروري تآكل أكسيد السيليكون ونيتريد السيليكون المكشوفين خارج مقاوم الضوء، وترسيب طبقة من السيليكون للعزل بين الأنبوب البلوري، ثم استخدام تقنية النقش لكشف السيليكون السفلي.ثم حقن البورون أو الفوسفور في هيكل السيليكون، ثم ملء النحاس للاتصال مع الترانزستورات الأخرى، ومن ثم تطبيق طبقة أخرى من الغراء عليها لصنع طبقة من الهيكل.بشكل عام، تحتوي الشريحة على عشرات الطبقات، مثل الطرق السريعة المتشابكة بكثافة.
7. الكسوف وحقن الأيونات
أولاً، من الضروري تآكل أكسيد السيليكون ونيتريد السيليكون المكشوفين خارج مقاوم الضوء، وترسيب طبقة من السيليكون للعزل بين الأنبوب البلوري، ثم استخدام تقنية النقش لكشف السيليكون السفلي.ثم حقن البورون أو الفوسفور في هيكل السيليكون، ثم ملء النحاس للاتصال مع الترانزستورات الأخرى، ومن ثم تطبيق طبقة أخرى من الغراء عليها لصنع طبقة من الهيكل.بشكل عام، تحتوي الشريحة على عشرات الطبقات، مثل الطرق السريعة المتشابكة بكثافة.
وقت النشر: 08 يوليو 2023